rastrumaj maskoj

Kiel priskribite en la antaŭaj sekcioj, la fina eligo de la masko de modulo (la kombinita efiko de iuj desegnitaj kaj parametraj maskoj) estas grizskala rastrumbildo reprezentanta la gradon per kiu la efiko de la modulo estu aplikita al ĉiu pikselo. Ĉi tiu rastrumbildo estas konservita interne por aktivaj moduloj kaj povas esti poste reuzita per aliaj moduloj en la pikselo.

Kiel kun iu ajn masko, se la netravidebleca valoro por pikselo en rastruma masko estas nul la enigo de la modulo pasis tra la modulo senŝanĝa. Se la netravidebleco estas 1,0 la modulo havas sian plenan efikon. Por ĉiu valoro inter 0 kaj 1,0 la efiko de la modulo estas aplikata proporcie ĉe tiu loko.

Vi povas elekti rastruman maskon el la kombinujo. Rastrumaj maskoj povas esti identigitaj sub la nomo de la modulo kontraŭ kiu ili estis origine generitaj.


Noto: Rastrumaj maskoj estas generitaj kiel parto de la interna prilaboro de modulo. Post kiam la prilaboro de modulo estas kompleta ĝia masko tiam iĝos havebla al postaj moduloj en la pikseltubo.

Ĉi tio havas du implicojn:

  1. Rastrumaj maskoj ne povas esti generitaj per malfunkciigitaj moduloj ĉar ili ne partoprenas en pixelpipe-prilaboro. Tuj kiam vi malŝaltas modulon, ĝia masko ne plu estas uzebla.

  2. Rastrumaj maskoj estas pasigitaj supren la pikseltubon post prilaboro de modulo – ili povas esti uzataj nur de moduloj kiuj venas poste en la tubo ol la generanta modulo.


translations