Маски on darktable 5.6 user manual

Огляд

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Маски дозволяють обмежити ефект модуля таким чином, що він застосовується лише до певних частин зображення.

Маску можна розглядати як зображення у градаціях сірого, де кожен піксель має значення від 0 до 1.0 (або від 0% до 100%). Це значення є значенням непрозорості і використовується для визначення того, наскільки модуль впливає на кожен піксель.

У наступних розділах пояснюється, як створювати маски в Darktable.

Намальовані маски

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

За допомогою функції намальованої маски ви можете створити маску, намалювавши фігури безпосередньо на полотні зображення. Фігури можна використовувати окремо або в поєднанні. Після того, як фігура намальована на зображенні, її можна коригувати, видаляти або використовувати повторно в інших модулях.

Фігури зберігаються в програмі як вектори та відображаються з необхідною роздільною здатністю під час обробки в конвеєрі. Фігури виражаються в системі координат початкового зображення і трансформуються разом з рештою зображення будь-якими активними деформуючими модулями в конвеєрі (Корекція оптики, Обертання та перспектива, як приклад). Це означає, що фігура завжди працюватиме на одній і тій же області зображення, незалежно від будь-яких модифікацій, які можуть бути застосовані згодом.

Параметричні маски

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Функція параметричної маски пропонує чітко вибірковий контроль за тим, як маскуються окремі пікселі. Це робиться шляхом автоматичного генерування проміжної маски змішування з визначених користувачем параметрів. Ці параметри являють собою кольорові координати, а не геометричні координати, що використовуються у намальованих масках.

Для кожного каналу даних модуля (наприклад, Lab, RGB) та кількох віртуальних каналів даних (наприклад, відтінок, насиченість) ви можете побудувати поканальну функцію непрозорості. Залежно від значення кожного пікселя для заданого каналу даних, ця функція обчислює коефіцієнт змішування від 0 до 1 (100%) для цього пікселя.

Поєднання намальованих та параметричних масок

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Намальовані та параметричні маски можуть використовуватися в поєднанні для формування єдиної маски, яка може бути застосована до модуля.

Є два основні елементи, які контролюють, як поєднуються окремі маски: параметр Полярність кожної окремої маски (визначається кнопками плюс або мінус) та параметр у списковому полі “Поєднувати маски”.

Поле “Поєднувати маски” містить наступні опції, що визначають спосіб поєднання намальованих та параметричних масок:

Ексклюзивно: Прямий метод комбінування масок, ексклюзивний режим перемножує окремі значення пікселів від кожної з масок компонентів.; Для даного пікселя остаточна маска матиме значення 0, якщо будь-яка з окремих масок в цій точці дорівнює 0, і вона матиме значення 1.0, лише якщо всі маски мають значення 1.0 у цій точці.

Уточнення маски та додаткові елементи керування

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Коли маска активна, показано кілька додаткових повзунків, які дозволяють масці бути далі уточненою.

Поріг деталей: Цей елемент керування дозволяє змінити прозорість маски залежно від кількості деталей на зображенні. Використовуйте цей повзунок, щоб вибрати або ділянки з великою кількістю деталей (позитивні значення), або гладкі ділянки, в яких немає деталей (негативні значення). За замовчуванням (нуль) по суті пропускає уточнення деталей. Це переважно корисно для застосування ефектів різкості та розмиття, які ігнорують нефокусовані (“боке”) регіони, або для збільшення різкості лише розмитих частин, запобігаючи надмірному підвищення різкості регіонів у фокусі.

Примітка: Дані, що використовуються для уточнення маски деталей, беруться з етапу демозаїкізації в конвеєрі обробки, а не з входу модуля (який використовується для інших критеріїв параметричної маски). Жоден з модулів обробки після демозаїки не вплине на маску деталей, і вона недоступна для зображень, що не є raw.

ШІ-маскування

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Для маскування за допомогою ШІ потрібно ввімкнути функції ШІ в Налаштуваннях ШІ з активною моделлю для завдання ШІ, яке використовує конкретний інструмент маскування (для кожного інструменту нижче вказано, яке саме). Див. Огляд функцій ШІ, щоб дізнатися, що де працює.

На даний момент Darktable пропонує один інструмент маскування на основі ШІ:

Об’єкт ШІ: Використовує завдання mask. Клікніть на об’єкті, щоб створити навколо нього маску; повторюйте, додаючи більше кліків, доки вона не покриє саме те, що вам потрібно. Результат векторизується в групу контурних фігур і може редагуватися, як будь-яка інша намальована фігура – див. Намальовані маски: Об’єкт ШІ для отримання детальної інформації.

Растрові маски

Mon, 01 Jan 0001 00:00:00 +0000

Як було описано в попередніх розділах, кінцевим результатом маски модуля (комбінований ефект будь-яких намальованих та параметричних масок) є растрове зображення у градаціях сірого, що представляє ступінь, до якого ефект модуля повинен застосовуватися до кожного пікселя. Це растрове зображення зберігається внутрішньо для активних модулів і може бути згодом повторно використано іншими модулями в конвеєрі обробки.

Як і у випадку з будь-якою маскою, якщо значення непрозорості для пікселя в растровій масці дорівнює нулю, вхід модуля проходить через модуль без змін. Якщо непрозорість 1.0, модуль має повний ефект. Для кожного значення від 0 до 1.0 ефект модуля застосовується пропорційно в цьому місці.